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广绿半导体行业废气处理

浏览次数: 发布日期:2020-03-09

关键词:半导体废气处理

导读:半导体工业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机化合物。在这个过程中,这些有机溶剂大部分挥发为废气,这类气体的排放一般采用吸附法、焚烧法或两者结合的方法。

半导体工业中使用的清洗剂、显影剂、光刻胶、蚀刻液等溶剂中含有大量的有机化合物。在这个过程中,这些有机溶剂大部分挥发为废气,这类气体的排放一般采用吸附法、焚烧法或两者结合的方法。

行业特点

目前,这类气体的排放一般采用吸附法、焚烧法或两者结合的方法。吸附是利用多孔固体吸附剂对混合气体进行处理,使其中的一种或多种组分能够吸附在固体表面,达到分离的目的。该吸附剂选择性高,能分离其它工艺难以分离的混合物,能有效去除(或回收)低浓度有害物质,净化效率高,设备简单,操作方便,可实现自动控制。

广绿半导体行业废气处理

但固体吸附剂吸附容量小,需要大量吸附剂,设备庞大,吸附后需要再生处理,这是吸附处理的主要缺点。从半导体生产现场挥发出的有机废气经就地排气罩收集后,经管道送至吸附净化系统。一般用活性炭作吸附剂。由于活性炭是一种非极性吸附剂,其对废气中水汽的敏感性不高,价格低廉。焚烧法也广泛应用于半导体工业的各种有机废气处理,有机物通过热氧化转化为二氧化碳和水。同时,焚烧也是处理流量和浓度稳定的废气的好方法。在热氧化过程中,有机废气被加热,气相有机物被氧化。为了节省燃料,通常采用换热器回收焚烧产生的热量,对进口燃气进行预热。这种方法通常用于处理大流量、低浓度的气体。由于半导体工业中的废气焚烧产生二氧化硅,二氧化硅钝化催化剂,接触氧化在半导体工业中应用较少。

一些半导体工厂也使用旋转浓缩系统来收集有机废气,如沸石浓缩轮。由于半导体工艺中有机废气排放量大(通常大于11039m3h),浓度低(通常小于25ppmv),采用其它处理技术难以达到满意的处理效果。沸石浓缩轮采用内有吸附材料的旋转轮,吸附材料部分暴露在废气流中。转轮吸取废气中的挥发性污染物,并用蒸汽或热将其解吸。解吸气流中收集了高浓度的挥发物,低浓度和高浓度的气流可以很好地氧化。旋转浓缩系统在半导体工业中的一个缺点是对甲醇的亲和性差,去除率只有40-60%。

总之,在废气处理方面,半导体行业的酸碱废气一般采用相应的碱吸取和酸吸取处理。工艺方法非常成熟。只要对相关工艺参数进行适当优化,就能满足本标准的要求,对有机废气的处理也需要引起重视。目前,有机废气的处理工艺有吸附、吸附、直接燃烧、催化燃烧、冷凝等,吸附法采用活性炭直接吸附,净化效果好,但操作成本高;吸附法适用于低温,中高浓度废气;直接燃烧法适用于高浓度、小风量废气处理;冷凝法适用于组分相单一、高浓度,对有机废气有一定回收价值。对于半导体工业中浓度低、风量大、成分复杂的有机废气,吸附法、吸附法、燃烧法和冷凝法不适用,吸附催化燃烧法更适用。目前,省内一些大型半导体企业已采用沸石转轮进行浓缩燃烧。该方法适用于大风量、低浓度、常温的有机废气处理。净化效率达90%以上,浓缩比为20:1。运行成本低,设备处理风量大,占地面积小,不产生二次污染,污染物可连续脱附处理。根据企业实际运行情况,有机废气进气浓度大于200mgm3时,处理效率达到95%,小于200mgm3时,处理后浓度控制在20mgm3,可确保废气达标排放。

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